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第一章 表面电子性质理论J．R．史密斯2

1.1 简单例子：表面态、连续态和局域轨函数2

1.2 电子功函数6

1.3 杂质屏蔽——静态介电响应17

1.4 表面态和表面等离子体激元26

1.4.1 表面态26

1.4.2 表面等离子体激元32

1.5 局域态密度36

1.6 动态评论39

第二章 化学吸附理论S．K．莱昂和R.戈默39

2.1 定性的讨论41

2.2 纽恩斯－安德森模型44

2.3 用完全的基矢集合重建理论公式53

2.4 吸附物－吸附物间的相互作用60

2.5 价－键（Schrieffer-Paulson-Gomer）计算法61

2.6 线性响应（Kohn-Smith-Ying）方法63

2.7 结束语64

第三章 化学吸附：实验方面的情况L．D．施米特64

3.1 清洁表面的结构67

3.1.1 体心立方过渡金属69

3.1.2 面心立方金属70

3.1.3 半导体71

3.1.4 绝缘体72

3.2 吸附物的表征方法72

3.2.1 衍射73

3.2.2 动力学74

3.2.3 俄歇电子能谱学（AES）75

3.2.重其他技术76

3.3 结晶各向异性77

3.3.1 阶梯形表面80

3.4 结合态82

3.4.1 在钨上的氢83

3.4.2 在钨上的一氧化碳92

3.5 吸附物与吸附物间的相互作用97

3.5.1 相互排斥作用97

3.5.2 相互吸引作用和有序结构100

3.5.3 二维相变102

3.6 相似金属上的吸附105

3.6.1 在W、Mo和Ta上的H2、N2和CO105

3.6.3 面心立方和体心立方结构的衬底之间的比较108

3.6.2 在Ni、Pd和Cu上的CO108

3.7 小结109

第四章 脱附现象D．南泽尔109

4.1 热脱附111

4.1.1 脱附机理和速率参数111

4.1.2 热脱附的实验方法114

4.1.3 热脱附测量的一些结果127

4.1.4 热脱附理论133

4.2 电子碰撞脱附137

4.2.1 电子碰撞脱附的实验方法和数据的整理138

4.2.2 实验结果142

4.2.3 电子碰撞脱附理论145

4.2.4 电子碰撞脱附在实用上的重要性149

4.3 光致脱附150

4.4 离子碰撞脱附151

4.5 场致脱附151

4.6 结论153

第五章 光电发射和场致发射能谱学E．W．普卢默153

5.1 场致发射和光电发射的初步讨论155

5.1.1 场致发射156

5.1.2 光电发射159

5.2 测量方法162

5.2.1 场致发射162

5.2.2 清洁表面163

5.3 吸附物覆盖的表面170

5.3.1 隧道共振170

5.3.2 非弹性隧道效应174

5.3.3 多体效应和光助场致发射176

5.4 光电发射177

5.4.1 光电激发，主要涉及原子和分子177

5.4.2 光电发射的截面180

5.4.3 发射与角度的关系186

5.4.4 松弛效应189

5.4.5 体发射与表面发射198

5.4.6 角分辨的表面发射205

5.5 实验结果210

5.5.1 清洁表面210

5.5.2 对吸附的研究218

第六章 低能电子衍射法和俄歇法E．鲍尔218

6.1.1 弹性散射245

6.1 慢电子与凝聚态物质的相互作用245

6.1.2 非弹性散射249

6.1.3 准弹性散射252

6.1.4 散射过程产生的结果254

6.2 低能电子衍射255

6.2.1 实验方法255

6.2.2 理论方法257

6.2.3 结果267

6.2.4 特殊的研究课题275

6.3 俄歇电子方法277

6.3.1 物理原理277

6.3.2 实验方法284

6.3.3 结果287

6.3.4 特别的研究课题290

6.4 低能电子衍射结构术语和上层超结构296

6.5 附录：关于低能电子衍射和俄歇现象的一些新近评述299

第七章 多相催化中的概念M．布达特299

7.1 定义300

7.2 亲合力、反应活性和催化活性303

7.3 非理想催化表面：氨的合成305

7.4 非理想催化面：水煤气变换反应309

7.5 结构因素或几何因素311

7.6 电子因素或配位体因素315

7.7 助剂和毒物318

7.8 活性中心320

参考文献325

附加 参考文献345