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![电真空工艺](https://www.shukui.net/cover/35/31100880.jpg)
- 莫纯昌等编 著
- 出版社: 北京:国防工业出版社
- ISBN:15034·2048
- 出版时间:1980
- 标注页数:467页
- 文件大小:35MB
- 文件页数:472页
- 主题词:
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图书目录
第一章 材料的特性与电真空性能的关系1
1-1 金属的内部结构1
1-2 合金5
1-3 金属材料在受热情况下的性能变化13
1-4 材料的磁性21
1-5 电介质材料27
第二章 钎焊31
2-1 钎焊时的物理化学过程32
2-2 钎焊接头的结构38
2-3 钎焊工艺42
2-4 钎焊方法46
第三章 玻璃-金属封接54
3-1 玻璃的通性54
3-2 玻璃中热致应力的产生和退火58
3-3 玻璃与金属封接61
3-4 玻璃与金属封接工艺70
3-5 玻璃中应力的检测75
第四章 陶瓷-金属封接81
4-1 电真空陶瓷81
4-2 钼锰法陶瓷-金属封接89
4-3 活性金属法陶瓷-金属封接99
4-4 真空蒸涂金属化与离子溅射金属化107
4-5 陶瓷-金属封接结构109
第五章 阴极125
5-1 概述125
5-2 氧化物阴极126
5-3 钡钨阴极154
5-4 钍钨阴极171
5-5 硼化物阴极176
5-6 热子(热丝)180
5-7 二次电子发射体185
5-8 负电子亲和势发射体193
第六章 荧光屏208
6-1 概述208
6-2 沉淀法涂敷荧光屏217
6-3 粉浆法涂敷彩色荧光屏227
第七章 特殊工艺234
7-1 电解加工与电铸工艺234
7-2 氩弧焊241
7-3 电弧等离子技术250
7-4 电子束焊接263
7-5 超声及其应用274
第八章 薄膜工艺284
8-1 概述284
8-2 真空蒸发镀膜290
8-3 溅射镀膜292
8-4 离子镀膜297
8-5 光学膜299
8-6 化学汽相沉积302
8-7 光刻311
第九章 吸气剂322
9-1 概述322
9-2 吸气剂的吸气三因素322
9-3 吸气剂的吸气模型326
9-4 蒸散型吸气剂330
9-5 非蒸散型吸气剂339
第十章 电子管内的残余气体362
10-1 概述362
10-2 残余气体对电真空器件性能的影响365
10-3 残余气体分析技术375
10-4 器件内的气源389
10-5 电真空器件内气体的反应与变化400
10-6 电真空器件内总压力的测定413
第十一章 可靠性技术426
11-1 电真空器件的高压击穿426
11-2 工艺卫生436
第十二章 检测技术445
12-1 电子与材料表面的相互作用445
12-2 扫描电子显微镜448
12-3 俄歇电子谱仪452
12-4 固体火花质谱仪458
12-5 离子探针分析仪460
12-6 表面单原子层分析用的次级离子质谱仪462
12-7 原子吸收光度计463
12-8 X射线衍射仪465