图书介绍
离子束沉积薄膜技术及应用PDF|Epub|txt|kindle电子书版本网盘下载
- 刘金声著 著
- 出版社： 北京：国防工业出版社
- ISBN：7118028827
- 出版时间：2003
- 标注页数：434页
- 文件大小：23MB
- 文件页数：453页
- 主题词：
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图书目录
第1章 离子束沉积（IBD）薄膜原理1
1.1 离子束的输运及非热平衡沉积薄膜过程3
1.1.1 运行离子的碰撞现象3
1.1.2 非热平衡条件下的IBSD薄膜原理5
1.2 离子束溅射粒子的基本性质6
1.2.1 溅射原子通量的构成6
1.2.2 溅射原子通量的分布7
1.2.3 溅射合金成分原子通量的分布8
1.2.4 溅射原子能量的分布13
1.2.5 合金的溅射特性14
1.2.6 超薄薄膜的生长32
1.2.7 氧化物的溅射特点40
1.3 惰性气体离子的气种效应42
1.3.1 薄膜质量厚度分布及晶格膨胀现象43
1.3.2 薄膜中掺气的气种效应50
1.3.3 气种效应改变薄膜性质的典型实例55
1.4 离子束轰击固体表面引起的重要效应61
1.4.1 离子束清洗和增强薄膜附着力的作用61
1.4.2 离子束轰击引起材料表面损伤及缺陷增强扩散现象69
1.4.3 离子束轰击引起的表面结构再造现象78
1.4.4 离子束表面结构再造技术的应用103
第2章 IBSD薄膜技术127
2.1.1 控制薄膜生长速率的相关因素132
2.1 控制生长薄膜结构及性质的方法132
2.1.2 控制薄膜性质的特殊因素——溅射原子的沉积角137
2.1.3 薄膜厚度对薄膜附着力、结构及内应力的影响145
2.2 薄膜晶体结构的形成及演变152
2.2.1 积薄膜结构的M-D模型152
2.2.2 柱状晶粒的层次模型160
2.3 薄膜结构与薄膜内应力164
2.3.1 气体压强对薄膜内应力的影响164
2.3.2 临界气体压强和临界入射角对薄膜内应力的影响168
2.3.3 产生薄膜内应力的基本过程和模型169
2.4 IBSD薄膜技术的典型应用181
2.4.1 IBSDSi薄膜182
2.4.2 IBSD薄膜电容183
2.4.3 IBSD超薄巨磁阻Ni-Fe薄膜185
2.4.4 IBSD高温超导薄膜191
第3章 双离子束溅射沉积（DIBSD）薄膜技术194
3.1 双Ar+离子束溅射沉积薄膜改性方法197
3.1.1 离子束辅助轰击改变沉积合金薄膜的成分197
3.1.2 离子束辅助轰击改变沉积薄膜的结构199
3.1.3 离子束辅助轰击控制薄膜的晶粒取向度202
3.1.4 离子束辅助轰击控制Fe薄膜的微结构204
3.1.5 控制（Ni-Fe）-NiO双层薄膜的换向磁场耦合度207
3.1.6 IBD类金刚石碳薄膜213
3.1.7 IBSDAg薄膜的光电性质233
3.2.1 锰铌酸铅（PMN）薄膜Pb成分损失模型240
3.2 双离子束技术的近期进展240
3.2.2 控制超晶格氧化铋锶钙铜［BiO2(Sr,Ca)2CuOx］超导薄膜成分244
3.2.3 超硬β-C3N4薄膜的理论研究与实验进展248
3.2.4 用双离子束方法制取和研究立方氮化硼（c-BN）薄膜264
3.2.5 用双Ar+离子束方法制取氮化硼硅（(B0.5-xSix)N0.5）薄膜271
第4章 IBRSD薄膜方法及应用278
4.1 IBRSD过程的基本方式280
4.1.1 不同IBRSD薄膜过程的机理要点280
4.1.2 反应气体与材料的作用形式282
4.2 IBRSD及反应合成化合物薄膜284
4.2.1 IBRSDSi3N4和其他氮化硅薄膜284
4.2.2 采用3种方式IBRSD氮化铌（NbN）超导薄膜295
4.3 IBRSDⅣA和ⅣB族过渡金属氮化物薄膜301
4.3.1 TiN薄膜的结晶特征及附着力303
4.3.2 TiN薄膜在微电子制造技术中的应用309
4.3.3 IBRSDTiN薄膜的结构311
4.3.4 （Ti-Al）N薄膜简述317
4.3.5 IBRSD碳化钛（TiC）涂层319
4.3.6 IBRSDTaN薄膜及应用321
4.4 IBRSD氧化物薄膜327
4.4.1 IBRSD铟锡氧化物（ITO）薄膜327
4.4.2 在铂（Pt）衬底表面制取钙钛矿相钛酸铅（PbTiO3）薄膜329
4.4.3 在Si衬底表面制取Ta2O5薄膜的界面分析331
4.4.4 非反应溅射双离子束增强型沉积SiO2薄膜336
4.4.5 单IBRSDTiO2薄膜338
5.1 离子轰击对生长薄膜的基本作用344
第5章 IBAD薄膜方法及应用344
5.1.1 离子轰击对初始生长薄膜形态的影响345
5.1.2 离子轰击引起不同衬底生长薄膜的选择性347
5.1.3 离子轰击引起纳米薄膜结构及性质的变化351
5.1.4 离子的电荷效应364
5.1.5 N+和N2+离子轰击选择成分的氮化效应366
5.1.6 O2+离子轰击的表面氧化效应369
5.1.7 轰击离子的浅层注入效应372
5.1.8 离子轰击影响薄膜内应力的气种效应373
5.1.9 离子束辅助轰击生长薄膜的致密化效应376
5.2.1 IBAD薄膜方法的基本特点378
5.2 IBAD薄膜方法概述378
5.2.2 IBAD薄膜方法的基本作用380
5.3 IBAD薄膜方法的基础381
5.3.1 IBAD化合物薄膜382
5.3.2 IBAD金属、化合物和氧化物薄膜386
5.3.3 IBAD多晶AIN薄膜390
5.3.4 控制钛酸铅（PbTiO3）薄膜内应力的研究394
5.4 IBAD光学薄膜的应用402
5.4.1 概述402
5.4.2 应用光学薄膜的研究与进展406
参考文献431