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![半导体材料生长技术](https://www.shukui.net/cover/77/34339813.jpg)
- (美)曾(Tsang,W.T.)主编;江剑平等译 著
- 出版社: 广东科技出版社;清华大学出版社
- ISBN:7535911358
- 出版时间:1993
- 标注页数:443页
- 文件大小:18MB
- 文件页数:456页
- 主题词:
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图书目录
第一章 InGaAsP液相外延生长1
Ⅰ.引言3
Ⅱ.In-Ga-As-P相图和In-Ga-As相图5
Ⅲ.晶格匹配的InGaAsP层和InGaAs层的生长21
Ⅳ.无失配位错外延层的生长29
Ⅴ.生长速率40
Ⅵ.高纯外延层的生长68
Ⅶ.生长的其它特点81
Ⅷ.在(111)A取向的In0.53 Ga0.47As上直接生长InP90
Ⅸ.结语95
参考文献96
第二章 Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体的分子束外延104
Ⅰ.分子束外延的历史回顾106
Ⅱ.分子束外延的基本过程108
Ⅲ.生长设备115
Ⅳ.在位表面检测技术116
Ⅴ.衬底处理127
Ⅵ.Ⅲ-V族化合物的生长条件133
Ⅶ.单层的输运和光学性质155
Ⅷ.量子阱结构的输运和光学性质163
Ⅸ.MBE生长的Ⅲ-Ⅴ族半导体激光器171
Ⅹ.新型激光器181
Ⅺ.新型光探测器209
Ⅻ.结语219
参考文献221
第三章 Ⅲ-Ⅴ族半导体的有机金属汽相外延生长227
Ⅰ.引言228
Ⅱ.生长过程233
Ⅲ.典型材料和器件266
Ⅳ.总结和展望277
参考文献279
第四章 InGaAsP和GaAs的卤化物和氯化物输运的汽相沉积285
Ⅰ.引言286
Ⅱ.卤化物输运287
Ⅲ.热力学模型295
Ⅳ.生长机理的讨论317
Ⅴ.结语321
附录321
参考文献324
第五章 GaxInι-xAsyPι-y合金的低压金属有机化学汽相沉积326
Ⅰ.引言328
Ⅱ.生长技术331
Ⅲ.InP的生长与特性335
Ⅳ.GaInAs的生长与特性348
Ⅴ.GaInAsP的生长与特性379
Ⅵ.结语408
参考文献410
第六章 Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体中的缺陷415
Ⅰ.引言416
Ⅱ.光电子材料中的固有缺陷和工艺过程中产生的缺陷422
Ⅲ.位错的光学性质429
Ⅳ.与退化有关的缺陷反应433
Ⅴ.结语439
参考文献440