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半导体材料生长技术
  • (美)曾(Tsang,W.T.)主编;江剑平等译 著
  • 出版社: 广东科技出版社;清华大学出版社
  • ISBN:7535911358
  • 出版时间:1993
  • 标注页数:443页
  • 文件大小:18MB
  • 文件页数:456页
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图书目录

第一章 InGaAsP液相外延生长1

Ⅰ.引言3

Ⅱ.In-Ga-As-P相图和In-Ga-As相图5

Ⅲ.晶格匹配的InGaAsP层和InGaAs层的生长21

Ⅳ.无失配位错外延层的生长29

Ⅴ.生长速率40

Ⅵ.高纯外延层的生长68

Ⅶ.生长的其它特点81

Ⅷ.在(111)A取向的In0.53 Ga0.47As上直接生长InP90

Ⅸ.结语95

参考文献96

第二章 Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体的分子束外延104

Ⅰ.分子束外延的历史回顾106

Ⅱ.分子束外延的基本过程108

Ⅲ.生长设备115

Ⅳ.在位表面检测技术116

Ⅴ.衬底处理127

Ⅵ.Ⅲ-V族化合物的生长条件133

Ⅶ.单层的输运和光学性质155

Ⅷ.量子阱结构的输运和光学性质163

Ⅸ.MBE生长的Ⅲ-Ⅴ族半导体激光器171

Ⅹ.新型激光器181

Ⅺ.新型光探测器209

Ⅻ.结语219

参考文献221

第三章 Ⅲ-Ⅴ族半导体的有机金属汽相外延生长227

Ⅰ.引言228

Ⅱ.生长过程233

Ⅲ.典型材料和器件266

Ⅳ.总结和展望277

参考文献279

第四章 InGaAsP和GaAs的卤化物和氯化物输运的汽相沉积285

Ⅰ.引言286

Ⅱ.卤化物输运287

Ⅲ.热力学模型295

Ⅳ.生长机理的讨论317

Ⅴ.结语321

附录321

参考文献324

第五章 GaxInι-xAsyPι-y合金的低压金属有机化学汽相沉积326

Ⅰ.引言328

Ⅱ.生长技术331

Ⅲ.InP的生长与特性335

Ⅳ.GaInAs的生长与特性348

Ⅴ.GaInAsP的生长与特性379

Ⅵ.结语408

参考文献410

第六章 Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体中的缺陷415

Ⅰ.引言416

Ⅱ.光电子材料中的固有缺陷和工艺过程中产生的缺陷422

Ⅲ.位错的光学性质429

Ⅳ.与退化有关的缺陷反应433

Ⅴ.结语439

参考文献440

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