图书介绍
半导体器件译丛 3 总第10期PDF|Epub|txt|kindle电子书版本网盘下载
- 济南市半导体元件实验所情报资料室编辑 著
- 出版社： 济南市半导体元件实验所情报室资料室
- ISBN：
- 出版时间：1971
- 标注页数：62页
- 文件大小：21MB
- 文件页数：65页
- 主题词：
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图书目录
（1）氮化硅通过氧的影响转变为二氧化硅1
（2）硅上氮化硅和氮氧化硅薄膜作扩散掩蔽10
（3）氧化硅做氮化硅的腐蚀掩蔽14
（4）用氯进行硅气相腐蚀16
（5）锑扩散的掺杂氧化物淀积系统21
（6）硅器件工艺过程中氯化氢吸附的使用28
（7）离子沾污引起的低电流hFE的退化32
（8）hFE的雪崩衰降47
（9）半导体片中掺杂分布的直接图示方法59