图书介绍

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晶体管原理
  • 陈星弼,唐茂成编 著
  • 出版社: 北京:国防工业出版社
  • ISBN:15034·2216
  • 出版时间:1981
  • 标注页数:442页
  • 文件大小:22MB
  • 文件页数:448页
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图书目录

目录1

第一章* 半导体中的载流子1

§1-1 半导体的导电性1

§1-2 平衡载流子的统计1

§1-3 载流子的运动17

§1-4 非平衡载流子22

第二章 p-n结31

§2-1 p-n结的平衡状态31

§2-2 p-n结在正向电压下的特性36

§2-3 p-n结在反向电压下的特性42

§2-4 p-n结电容47

§2-5 p-n结的击穿57

第三章 半导体表面68

§3-1 表面电荷的来源68

§3-2 半导体的表面势和表面空间电荷70

§3-3 界面态75

§3-4 表面对p-n结二极管性能的影响80

§4-1 均匀基区晶体管的放大系数86

第四章 晶体管的直流特性86

§4-2 漂移晶体管的放大系数91

§4-3 理想晶体管的直流特性95

§4-4 共基极的反向特性99

§4-5 其它电压-电流特性105

§4-6 小信号参数112

§4-7 基极电阻与T形等效电路117

第五章 晶体管的几种结构128

§5-1 合金结晶体管128

§5-2 平面晶体管131

§5-3 平面管的几种具体结构154

§5-4 可控硅整流器160

§5-5 双基极二极管164

第六章 晶体管的频率特性169

§6-1 基区输运过程和频率的关系169

§6-2 电流放大系数与频率的关系177

§6-3 等效电路187

§6-4 最高振荡频率和高频晶体管的结构193

附录一 晶体管的参数200

附录二 基区少子连续性方程的解201

第七章 晶体管的大电流特性206

§7-1 大注入效应206

§7-2 基区扩展效应211

§7-3 发射极电流集边效应217

第八章 功率晶体管222

§8-1 晶体管的热阻和等效热路222

§8-2 晶体管的热击穿及其参数随温度和工作点的变化240

§8-3 二次击穿和安全工作区254

§8-4 高频和微波功率晶体管266

第九章 开关晶体管288

§9-1 二极管的开关特性288

§9-2 晶体管的开关作用和大信号特性293

§9-3 晶体管的开关过程296

§9-4 开关晶体管301

第十章 MIS结构的电容及稳定性305

§10-1 理想MOS结构的电容-电压特性(C-V特性)305

§10-2 实际MOS结构的C-V特性315

§10-3 MOS结构的不稳定性324

§10-4 MIS结构的不稳定性326

§10-5 MIOS非挥发性存储器334

第十一章 场效应晶体管345

§11-1 MOS晶体管的工作原理和特性345

§11-2 阈电压VT351

§11-3 MOS晶体管输出特性的数学分析357

§11-4 MOS晶体管的直流参数及其与温度的关系362

§11-5 MOS晶体管的小信号参数、等效电路及其频率特性366

§11-6 MOS倒相器电路的瞬态响应377

§11-7 MOS晶体管制造工艺387

§11-8 MOS晶体管性能的提高394

§11-9 结型场效应晶体管407

第十二章 晶体管的噪声413

§12-1 晶体管的噪声413

§12-2 晶体管的噪声源415

§12-3 双极型晶体管高频噪声系数的近似表达式420

§12-4 双极型高频低噪声晶体管428

§12-5 MOS晶体管的噪声436

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