图书介绍
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- 杨邦朝，王文生编著 著
- 出版社： 成都：电子科技大学出版社
- ISBN：7810167499
- 出版时间：1994
- 标注页数：237页
- 文件大小：11MB
- 文件页数：246页
- 主题词：薄膜－表面物理学；薄膜技术
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图书目录
第一章 真空技术基础1
1-1 真空的基本知识1
1-2 稀薄气体的基本性质3
1-3 真空的获得7
1-4 真空的测量13
第二章 真空蒸发镀膜法17
2-1 真空蒸发原理17
2-2 蒸发源的蒸发特性及膜厚分布25
2-3 蒸发源的类型35
2-4 合金及化合物的蒸发41
2-5 膜厚和淀积速率的测量与监控50
3-1 溅射镀膜的特点60
第三章 溅射镀膜60
3-2 溅射的基本原理61
3-3 溅射镀膜类型85
3-4 溅射镀膜的厚度均匀性101
第四章 离子镀膜104
4-1 离子镀原理104
4-2 离子镀的特点105
4-3 离子轰击的作用107
4-4 离子镀的类型110
第五章 化学气相沉积118
5-1 化学气相沉积的基本原理118
5-2 化学气相沉积的特点124
5-3 CVD方法简介126
5-4 低压化学气相沉积129
5-5 等离子体化学气相沉积130
5-6 其他化学气相沉积法132
第六章 溶液镀膜法136
6-1 化学反应沉积136
6-2 阳极氧化法138
6-3 电镀法139
6-4 LB膜的制备140
第七章 薄膜的形成144
7-1 凝结过程144
7-2 核形成与生长148
7-3 薄膜形成过程与生长模式156
7-4 溅射薄膜的形成过程159
7-5 薄膜的外延生长160
7-6 薄膜形成过程的计算机模拟161
第八章 薄膜的结构与缺陷166
8-1 薄膜的结构166
8-2 薄膜的缺陷175
8-3 薄膜结构与组分的分析方法181
第九章 薄膜的性质189
9-1 薄膜的力学性质189
9-2 金属薄膜的电学性质198
9-3 介质薄膜的电学性质209
9-4 半导体薄膜的性质222
9-5 薄膜的其他性质230
参考文献237